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枚葉式清洗機-華林科納CSE
南通華林科納半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長：
單片式清洗裝置的優點（與浸漬.槽式比較）
1.晶片表面的微粒數非常少（到25nm可對應）
例：附著粒子數…10個/W以下（0.08UM以上粒子）
（參考）槽式200個/W
2.藥液純水的消費量少
藥液…（例）1%DHF的情況? 20L/日
純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分
3.小裝置size（根據每個客戶可以定制）
![24.png]( "24.png")
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液體濺射（塵埃強制除去）?
?![001.png]( "001.png")
（推薦)清洗方法
![]( "華林科納樣本最終稿印刷2015.10.20 轉曲文件-21.jpg")
單片式裝置的Particle再附著問題
?![02.png]( "02.png")
![002.png]( "002.png")
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更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網（www.hlkncas.com），現在熱線咨詢400-8768-096；18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。?
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