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    發布時間: 2016 - 03 - 10
    PP通風櫥---華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-PP通風柜 專為氫氟酸及硝化類濃酸設計的實驗室通風櫥,克服了傳統通風柜在高溫濃酸環境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷,具有的耐酸堿性能。適用行業:適用于各類研究實驗室---半導體實驗室、藥物實驗室 【產品描述】設備名稱南通華林科納CSE-PP通風柜產品描述【柜體】:采用厚8-12mm瓷白色PP制作,耐酸堿性能優異。經CNC精確裁切加工后,同色同質焊條熔焊修飾處理,表面無銳角。【上部柜體】:排氣柜采用頂罩式抽氣設計,設計有1個∮250mm排風口。導流板采用同質PP材料制作,耐酸堿性能優異。安裝尺寸科學合理,無氣流死角,獲取最大的廢氣捕捉性能。【操作臺面】:臺面采用12mmPP板制作,耐酸堿性能優異。通風柜臺面上水槽根據用戶要求配置。【下部柜體】:儲物柜體,中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈,耐腐蝕性能好。拉手采用同質C型PP拉手。【調節門】1. 調節門玻璃:采用厚4mm透明亞克力玻璃制作,耐酸堿性能優異。2.調節門邊框:為厚瓷白色PP板c型槽,嵌入式結合,以確保安全及耐用性。  3.調節門懸吊鋼索:每臺通風柜調節門鋼索連接。4.調節門平衡配重:采無段式配重箱設計,其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞。【電器設備】1.開關:按鈕帶燈式自鎖開關,包含風機開關,照明開關,總電源開關。2.照明設備:采用全罩式三防燈具,燈罩內具220v*20w*23.插座部分:每臺通風柜裝設帶防濺蓋220V10A 電源插座2個。設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096;18913575037【詳細參數】產品名稱PP通風櫥產品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸(L×W×H)1200...
    發布時間: 2017 - 04 - 06
    甩干機—華林科納CSESpin-dry machine 設備名稱CSE-甩干機主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H=面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉子旋轉→HOTN2吹干加轉子旋轉→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設備預設之制程結束。工作轉速300—2400r/min主體構造特點外觀材質:本體以W-PP10t板材質組焊組合。設備骨架:SUS25*25*1.2T骨架組合,結構強固。作業視窗:視窗采透明壓克力材質,有效掌握作業情況。管路系統:OneChamber模塊化。排風系統:間接式抽風設計,有效穩定空氣擾流,并同時減低異味。機臺支腳:具高低調整及鎖定功能。機臺正壓保護:采N2正壓保護。機臺微塵控制量:無刷伺服電機去靜電  氮氣控制單元1)管件閥門:SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮氣加熱功能:不銹鋼加熱器在線加熱3)低壓氮氣功能:待機時,保持腔內正壓,防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式沖洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭,對腔體排水水質進行監測。3)沖洗工藝完成后,氮氣將殘留在沖洗管路內的去離子水吹凈。4)待機時,保持回水盒內有水流入且流量可調。電控單元及軟件系統1)控制器操作界面:5.7”記憶人機+PLC可程序自動化控制器(人機TouchScreen)。2)軟件功能:編輯/儲存:制程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作熒幕上修改。3)儲存能力:記憶模塊:參數記憶,配方設定。 更多的甩干機清洗相關設備,可以關注http://www.dianedb.com ,400-8768-096
    發布時間: 2016 - 12 - 05
    干燥系統-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術優點NID?干燥系統利用IPA和N2霧化分配,以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術 可單臺設備或整合在濕法設備中 最佳的占地 成熟的工藝 無水跡 無碎片應用:拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征: 可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓 適用于標準高邊或低邊花籃規格:藝時間: 一般親水性晶圓片: ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片: ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量: 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點: 干燥后無斑點IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run去邊緣: 3 mm一般安裝參數:尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標準電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標準電流: 3 x 33 A培訓:操作、維護、工藝培訓標準: CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性: 平均故障間隔時間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時間 ≥ 300 h 可運行時間 ≥ 97 %更多的干燥系統設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 06 - 06
    廢氣處理系統-南通華林科納CSE南通華林科納半導體CSE 的廢氣處理系統可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa; 設備名稱南通華林科納CSE-廢氣處理系統系統說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa;2.工藝穩定,負壓波動在15%.3.電壓:380V,三相五線,8KW;4.采用英國廢氣處理系統工藝,CSE在原工藝上經過升級改造,新的系統推出市場后,客戶反映效果較好;系統工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統,主要由以下幾大部分組成:負壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風孔、負壓動力泵、循環噴淋泵、電控系統;廢氣經過一級錐形噴淋塔進入負壓腔內(每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭,對廢氣層形成水封,瞬間中和廢氣)、通過射流器產生負壓把負壓腔內的廢氣抽入正壓腔內中和(在負壓腔與正壓腔之間設有三級噴淋凈化塔,三級噴淋凈化塔內配有PP填料,配有噴嘴,再次充分噴淋中和廢氣)、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096 ;18913575037更多半導體行業廢氣處理系統可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統的相關方案。
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    GMP自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-GMP自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-GMP自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    研磨液自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-研磨液自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-研磨液自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    SPM腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備。其中SPM自動清洗系統設備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設 備 名  稱南通華林科納CSE-SPM腐蝕酸洗機適 用 領  域LED外延及芯片制造設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備基 本 介 紹主要功能:通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸(25片/藍)設備形式:室內放置型操作形式:自動設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096;18913575037更多的全自動半導體SPM腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
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    陶瓷盤清洗機-CSE設備名稱:陶瓷盤清洗機-華林科納CSE設備外型結構及主要參數  控制模式:  手動控制模式   自動控制模式。                清洗對象:陶瓷盤    設備形式: 室內放置型。  尺寸(參考,詳見圖紙,含地腳):3000  mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。  機臺總體結構暫定分為兩部分,機械運行機構裝置與機臺前方;機臺前方為清洗工作區域及機械行走區,機臺后上方為電器和氣路布置區域,后下方為液路布置區域。更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037,可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
    兆聲波清洗機—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine南通華林科納CSE-兆聲波清洗機 適用于硅晶片 藍寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:半導體 太陽能光伏 液晶等  設備名稱CSE-兆聲波清洗機類型槽式尺寸(參考)約3500(L)×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規格4” 2籃50片設備凈重1T運行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數6個操作方式手動/半自動/全自動適用規格2英寸-8英寸適用領域半導體、太陽能、液晶等 設備穩定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆  產品簡介1設備機架采用不銹鋼骨架外包PP板,耐酸堿腐蝕;2電氣區設置在設備后上部,與濕區和管路區完全隔離;3槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料;4機械手探入濕區部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理;5設備排風采用頂部百級FFU送新風,臺面下抽風,每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋,槽蓋下有單獨的抽風裝置,排風口處設有自動調節風門,即上電打開風門,斷電關閉風門,具有風壓檢測功能,以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能;6溶液槽中藥液自動供液按設定好比例混合,并可在工作過程中根據設定補液;客戶根據自身工藝條件自行設定;7臺面為多孔結構,便于臺面上沖洗水、液的排出;8操作面設有透明PVC安全門;9設備設有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護和報警裝置,保證設備的安全可靠;10配備有進口PFA,水、氣槍各一。 更多半導體兆聲清洗機設...
    設備名稱:晶棒腐蝕機---CSE產品描述:        ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統,抽風系統,電控及操作臺等部分組成;         ●進口優質透明PVC活動門(對開/推拉式),保證設備外部環境符合勞動保護的相關標準,以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;         ●機械臂定位精度高;         ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;         ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作.         ●非標設備,根據客戶要求具體定制,歡迎詳細咨詢!更多半導體清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統?●排風裝置(排風壓力、風量根據實際情況或客戶要求設計)將設備內揮發的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環保要求),避免擴散到室內;?●排風通道內設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調節風門,操作人員可根據情況及時調節排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統?●采用優質PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優質產品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數;?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統,獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
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