• <menu id="6csuc"><tt id="6csuc"></tt></menu>
  • 歡迎訪問南通華林科納半導體設備技術有限公司官網
    手機網站
    始于90年代末

    濕法制程整體解決方案提供商

    --- 全國服務熱線 --- 0513-87733829
    產品中心 產品中心
    400-8798-096
    聯系電話
    聯系我們
    掃一掃
    QQ客服
    SKYPE客服
    旺旺客服
    新浪微博
    分享到豆瓣
    推薦產品 / 產品中心
    發布時間: 2016 - 03 - 10
    太陽能硅片制絨腐蝕清洗機-CSE在光伏發電領域,由于多晶硅電池片成本較低,其 市 場 占有率已躍居首位,但相對于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽能電池 片與單晶硅太陽能電池片之間的差距,采用織構化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前,多晶硅表面織構化的方法主要有機械刻槽、激光刻槽、反應離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等,其中各 向同性酸腐制絨技術的工藝簡單,可以較容易地整合到多晶 硅太陽能電池的生產工序中,同時成 本 最 低,因 而 在 大 規 模 的工業生產中得到了廣泛的應用。更多的太陽能硅片制絨腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 12 - 05
    花籃/片盒清洗機-華林科納CSE 完美適應當前所有型號的花籃和片盒、傳輸片盒、前端開口片盒(Foup片盒)的清洗和干燥系統優點裝載晶圓直徑至200mm的花籃和片盒—或不同晶圓尺寸的花籃和片盒,同時可裝載晶圓直徑至300mm的前端開口片盒(Foup片盒)三種設備尺寸滿足客戶特殊需求 CleanStep I – 用于4組花籃和片盒加載和清洗能力:每次4組花籃和片盒清洗產能:每小時12組花籃和片盒 CleanStep II – 用于8組花籃和片盒加載和清洗能力:每次8組花籃和片盒清洗產能:每小時24組花籃和片盒 CleanStep III – 用于6組前端開口片盒(Foup)加載和清洗能力:每次6組前端開口片盒(Foup片盒)清洗產能:每小時18組前端開口片盒(Foup片盒) 適用于晶圓直徑至200mm的花籃和片盒的標準旋轉籠(Cleanstep I/II) 適用于所有片盒一次清洗過程 或是同時4組花籃和片盒,或是12個花籃(Cleanstep I/II) 簡單快捷的對不同尺寸的片盒和花籃進行切換 旋轉籠內的可旋轉載體方便加載或卸載花籃和片盒 通過控制系統對自鎖裝置的檢測,達到安全加載片盒和花籃,及其運行特征和優點可應用不同化學品(稀釋劑)來清洗 泵傳輸清洗液 計量調整可通過軟件設置控制操作熱水噴淋裝置 熱水一般由廠務供應 — 標準化 或有一個體積約100升的熱水預備槽(循環泵和加熱棒用于熱水預備槽—選項) 籠子 帶有可變速旋轉的控制的高扭矩伺服電機(按照加載量和設備配置,最大旋轉速度200rpm,) 旋轉的不銹鋼籠子 會自動停止工作(運行過程中出現失衡狀態時)熱空氣干燥 頂端吹下熱空氣 采用根據設備待機和工藝運行模式的可調風量的風扇裝置 不銹鋼架上裝有加熱器,可以溫度控制 軟件監控溫度 帶有反壓控制的高效過濾器輔助功能和操作控制 觸摸屏安裝在前面—標準化 也...
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    RCA濕法腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備設 備 名  稱南通華林科納CSE-RCA濕法腐蝕清洗機使 用 對 象硅晶片2-12inch適 用 領  域半導體、太陽能、液晶、MEMS等設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備主體構造特點1. 設備包括:設備主體、電氣控制部分、化學工藝槽、純水清洗槽等;并提供與廠務供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等。2.設備為半敞開式,主體使用進口WPP15和10mm厚板材,結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境,堅固耐用,雙層防漏,機臺底盤采用德國產瓷白PP板,熱焊接而成,可長期工作在酸堿腐蝕環境中3.主體:設備為半敞開式,主體使用進口WPP15和10mm厚板材,結構設計充分考慮長期工作在酸腐蝕環境,堅固耐用,雙層防漏,機臺底盤采用德國產瓷白PP板,熱焊接而成,可長期工作在酸堿腐蝕環境中;4.骨 架:鋼骨架+PP德國勞施領板組合而成,防止外殼銹蝕。5.儲物區:位于工作臺面左側,約280mm寬,儲物區地板有漏液孔和底部支撐;6.安全門:前側下開透明安全門,腳踏控制;7.工藝槽:模組化設計,腐蝕槽、純水沖洗槽放置在一個統一的承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成,杜絕機臺的滲漏危險;8.管路系統:位于設備下部,所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標簽注明;藥液管路采用PFA管,純水管路采用白色NPP噴淋管,化學腐蝕槽廢液、沖洗廢水通過專用管道排放;9.電氣保護:電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機臺頂部電控區,電氣元件有充分的防護以免酸霧腐蝕以保障設備性能運行穩定可靠;所有可能與酸霧接觸的...
    發布時間: 2020 - 04 - 21
    拋光液供液系統//拋光液供酸系統//拋光液供液設備//拋光液供酸設備設備功能1.提供拋光液和表面活性劑供應緩存桶,從而保證設備工藝流量穩定;2.提供溫度,PH值控制,以滿足拋光設備的工藝需求;3.滿足stock slurry循環使用需求;特點:1.所有Tank箱體采用SUS304框架+米黃PVC 保管,需配置排氣,排液,排漏以及漏液檢測報警。2.Tank材質采用NPP或PVDF以上,管道使用PFA,選用材料對slurry無顆粒和金屬污染(包括Pump內部與Slurry接觸部分);3.Stock slurry tank配置chiller(指定ORION CHILLER)和heater,4.Tank內的 Slurry 以及Surfactant處于常時循環狀態, 供應設備管路末端有壓力表;5.為檢測Tank內 Slurry 以及Surfactant的容量(Level), 配置***個**液位傳感器;6.所有Tank配置水槍,同時slurry桶上部能開啟,以方便沖洗Tank。7.所有的 Tank內要配置溫度和PH sensor,同時需要將數據同步傳送給設備主機;8.Tank使用控制面板進行顯示和操作控制。 供液泵使用磁力泵或磁浮泵,滿足現場實際揚程,流量等能力需求。9. 每個tank外部供應管路配置有自動配送閥并由設備自我控制。更多拋光液供液系統//拋光液供酸系統//拋光液供液設備//拋光液供酸設備可以關注南通華林科納半導體設備有限公司官網www.dianedb.com,熱線0513-87733829
    發布時間: 2017 - 12 - 19
    片盒清洗機-華林科納CSE 設備概況:主要功能:本設備主要手動/自動搬運方式,通過對片盒化學液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:片盒清洗機設備型號:CSE-SC-N259整機尺寸(參考):約1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(該設備非標定制)操作形式:手動 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統及電控部分組成 設備描述此裝置是一個手動的處理設備;設備前上方有各閥門、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂盒等,操作方便;主體材料:德國進口 10mmPP 板,優質不銹鋼骨架,外包 3mmPP 板防腐;臺面板為德國 10mm PP 板;DIW 管路及構件采用日本進口 clean-PVC 管材,需滿足 18MW去離子水水質要求;采用國際標準生產加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明安全考慮:1. 設有 EMO(急停裝置)2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設備排風口加負壓檢測表5. 設備三層防漏 漏盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內 更多的花籃和片盒清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096 18913575037可立即獲取免費的片盒清洗機解決方案。
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    自動供液系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
    發布時間: 2016 - 06 - 13
    設備名稱:晶棒腐蝕機---CSE產品描述:        ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統,抽風系統,電控及操作臺等部分組成;         ●進口優質透明PVC活動門(對開/推拉式),保證設備外部環境符合勞動保護的相關標準,以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;         ●機械臂定位精度高;         ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;         ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作.         ●非標設備,根據客戶要求具體定制,歡迎詳細咨詢!更多半導體清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    產品中心 產品中心
    產品列表
    溝槽腐蝕機-CSE概述1.1 設備概況:主要功能:本設備主要手動搬運方式,通過對si片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。1.1.1 設備名稱:溝槽腐蝕機1.1.2 設備型號:CSE-SC-N6011.1.3 整機尺寸(參考):約2000mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);1.1.4 被清洗硅片尺寸:5寸/6寸1.1.5 設備形式:室內放置型;1.1.6 操作形式:手動1.2 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統及電控部分組成設備工藝走向:參照本方案臺面布局圖1.3 設備描述●此裝置是一個半自動的處理設備。●8.0英寸PROFACE 人機界面顯示 / 檢測 / 操作●主體材料:10mmPP板,優質不銹鋼骨架,外包3mmPP板防腐;●化學槽槽體材料:德國勞士領 10mm  PVDF板;●純水槽槽體材料:德國勞士領 10mm  NPP板;●臺面板為10mm PP板(帶有菱形漏液孔);●DIW主管路及構件采用日本進口clean-PVC管材,支管路及閥件采用PFA材質,需滿足18M去離子水水質要求;酸 堿管路材質為進口PFA/PVDF;●采用國際標準生產加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成●排風:位于機臺后下部●工作照明:上方防酸型白光照明●歐姆龍/三菱 PLC控制。●安全考慮:1. 設有EMO(急停裝置), 2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 電控箱正壓裝置(CDA Purge)5. 設備三層防漏  樓盤傾斜   漏液報警  設備整體置于防漏托盤內6. 排放管路加過濾裝置7 排液按鈕具有連鎖功能。啟動排液時,同時切斷泵啟動。8 槽內配液位開關,無液不循環。更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨...
    陶瓷盤清洗機-CSE設備名稱:陶瓷盤清洗機-華林科納CSE設備外型結構及主要參數  控制模式:  手動控制模式   自動控制模式。                清洗對象:陶瓷盤    設備形式: 室內放置型。  尺寸(參考,詳見圖紙,含地腳):3000  mm(L)× 1500 mm(W)× 2200 mm(H)。  機臺總體結構暫定分為兩部分,機械運行機構裝置與機臺前方;機臺前方為清洗工作區域及機械行走區,機臺后上方為電器和氣路布置區域,后下方為液路布置區域。更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037,可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
    兆聲波清洗機—華林科納CSE Mega sonic cleaning machine南通華林科納CSE-兆聲波清洗機 適用于硅晶片 藍寶石晶片 砷化鎵晶片 磷化銦晶片 碳化硅晶片 石英晶片可處理晶片尺寸2'-8';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:半導體 太陽能光伏 液晶等  設備名稱CSE-兆聲波清洗機類型槽式尺寸(參考)約3500(L)×1350 (W)×2300mm (H)清洗件規格4” 2籃50片設備凈重1T運行重量1.5T±10%電源380v 50hz 功率70kw槽體尺寸200mm*400mm*260mm槽數6個操作方式手動/半自動/全自動適用規格2英寸-8英寸適用領域半導體、太陽能、液晶等 設備穩定性1、清洗良品率≥99%2、≥0.2um顆粒少于10顆  產品簡介1設備機架采用不銹鋼骨架外包PP板,耐酸堿腐蝕;2電氣區設置在設備后上部,與濕區和管路區完全隔離;3槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料;4機械手探入濕區部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理;5設備排風采用頂部百級FFU送新風,臺面下抽風,每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋,槽蓋下有單獨的抽風裝置,排風口處設有自動調節風門,即上電打開風門,斷電關閉風門,具有風壓檢測功能,以及氮氣、壓縮空氣壓力報警功能;6溶液槽中藥液自動供液按設定好比例混合,并可在工作過程中根據設定補液;客戶根據自身工藝條件自行設定;7臺面為多孔結構,便于臺面上沖洗水、液的排出;8操作面設有透明PVC安全門;9設備設有漏電、急停、液位、過溫、安全門開、漏液、超時等保護和報警裝置,保證設備的安全可靠;10配備有進口PFA,水、氣槍各一。 更多半導體兆聲清洗機設...
    片盒清洗機-華林科納CSE 設備概況:主要功能:本設備主要手動/自動搬運方式,通過對片盒化學液體浸泡、沖洗、漂洗、鼓泡、快排等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果。設備名稱:片盒清洗機設備型號:CSE-SC-N259整機尺寸(參考):約1700mm(L)×1400mm(W)×2000mm(H);(該設備非標定制)操作形式:手動 設備組成該設備主要由清洗部分、抽風系統及電控部分組成 設備描述此裝置是一個手動的處理設備;設備前上方有各閥門、工藝流程的控制按鈕、指示燈、觸摸屏(PROFACE/OMRON)、音樂盒等,操作方便;主體材料:德國進口 10mmPP 板,優質不銹鋼骨架,外包 3mmPP 板防腐;臺面板為德國 10mm PP 板;DIW 管路及構件采用日本進口 clean-PVC 管材,需滿足 18MW去離子水水質要求;采用國際標準生產加工,焊接組裝均在萬級凈化間內完成排風:位于機臺后上部工作照明:上方防酸照明安全考慮:1. 設有 EMO(急停裝置)2. 強電弱點隔離3. 所有電磁閥均高于工作槽體工作液面4. 設備排風口加負壓檢測表5. 設備三層防漏 漏盤傾斜 漏液報警 設備整體置于防漏托盤內 更多的花籃和片盒清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096 18913575037可立即獲取免費的片盒清洗機解決方案。
    自動供液系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
    設備名稱:晶棒腐蝕機---CSE產品描述:        ●此設備自動化程度高,腐蝕清洗裝置主要由水平通過式腐蝕清洗主體(槽體部分/管路部分等),移動機械傳送裝置,CDS系統,抽風系統,電控及操作臺等部分組成;         ●進口優質透明PVC活動門(對開/推拉式),保證設備外部環境符合勞動保護的相關標準,以保證設備操作人員及其周圍工作人員的身體健康;         ●機械臂定位精度高;         ●整體設備腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;         ●設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作.         ●非標設備,根據客戶要求具體定制,歡迎詳細咨詢!更多半導體清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    2設備構成及詳細技術說明2.1工藝說明 2.2.臺面結構圖如下      3.設備說明3.1 排風系統?●排風裝置(排風壓力、風量根據實際情況或客戶要求設計)將設備內揮發的有毒氣體抽到車間排風管道或戶外(室外排放遵守國家環保要求),避免擴散到室內;?●排風通道內設有風量導流板,從而使排風效果達到最佳;?●本體頂部后方自帶強力抽風1個風道口裝置(每個藥劑槽對應一個),排風口直徑大于或等于 200mm 與本體焊成一體;?●排風口處設有手動調節風門,操作人員可根據情況及時調節排風量;3.2設備防護門:?●本體前方安裝有防護隔離門,隔離門采用透明PVC板制成,前門可以輕松開合,在清洗過程中,隔離門關閉,以盡量改善工作環境并減小對人體的傷害. ?●形式:上下推拉門。3.3 給排水/廢液系統?●給水管路為一路去離子水;?●給排水排廢接頭均為活性連接;?●排放方式均采用氣動控制的方式來保證安全3.4 電氣控制系統?●采用優質PLC可編程控制器控制全操作過程, ?●人機界面為觸摸屏,接口中有手動操作、故障報警、安全保護等功能,各工作位過程完成提前提示報警,觸摸屏選用優質產品;?●觸摸屏加鎖定,以防非授權人員修改或設定參數;?●所有電控部分需獨立封閉,帶抽風系統,獨立的配電柜?●設備照明:設備其它部位--低電壓燈,根據工作需要可控照明;?●設備整體采取人性化設計,方便操作;并裝有漏電保護和聲光報警提示裝置,保證性能安全可靠;電控部分導線采用耐高溫、耐腐蝕的專用導線,電氣控制部分內部還通有壓縮空氣保護,可防水耐腐蝕;?●設備所有處于腐蝕腔中的線纜均通過PE管進行保護,免受腐蝕;?●設備具有良好的接地裝置;
    石英清洗機-CSE設備名稱:石英清洗機-CSE產品特點:·適用石英爐管、石英鐘罩、石英件等的清洗·槽體材質為進口NPP,單槽清洗多槽清洗可選·手動、半自動、自動可選。·設備可裝配爐管旋轉裝置、內部鼓泡及沖洗、機械手、排風系統、安全防護門、漏液檢測等。·根據爐管/鐘罩規格定制。更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037,可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
    Copyright ©2005 - 2013 南通華林科納半導體設備有限公司
    犀牛云提供企業云服務
    南通華林科納半導體設備有限公司
    地址:中國江蘇南通如皋城南街道新桃路90號
    電話: 400-876- 8096
    傳真:0513-87733829
    郵編:330520
    Email:xzl1019@aliyun.com       www.dianedb.com


    X
    3

    SKYPE 設置

    4

    阿里旺旺設置

    2

    MSN設置

    5

    電話號碼管理

    • 400-8798-096
    6

    二維碼管理

    8

    郵箱管理

    展開
    加拿大28