• <menu id="6csuc"><tt id="6csuc"></tt></menu>
  • 歡迎訪問南通華林科納半導體設備技術有限公司官網
    手機網站
    始于90年代末

    濕法制程整體解決方案提供商

    --- 全國服務熱線 --- 0513-87733829
    產品中心 產品中心
    400-8798-096
    聯系電話
    聯系我們
    掃一掃
    QQ客服
    SKYPE客服
    旺旺客服
    新浪微博
    分享到豆瓣
    推薦產品 / 產品中心
    發布時間: 2016 - 11 - 02
    全自動濕法去膠清洗機-南通華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備 設備名稱南通華林科納CSE-全自動濕法去膠清洗機設備設備概況尺寸(參考):約3500(L)*1500(W)*2000(H)(具體尺寸根據實際圖紙確定)清洗件規格:一次性可裝8寸晶片25pcs典型生產節拍:5~10min/籃(清洗節拍連續可調)門:不銹鋼合頁門+PVC視窗主題構造特點設備由于是在一個腐蝕的環境,我們設備的排風方式,臺面下抽風,每套工藝清洗槽都有自動開閉的槽蓋,槽蓋下有單獨的抽風裝置。設備結構外型,整機主要由機架、工藝槽體、機械手傳輸系統、排風系統、電控系統、水路系統及氣路系統等組成。由于工藝槽內藥液腐蝕性強,設備需要做防腐處理:(1)設備機架采用鋼結構骨架包塑;(2)殼體采用鏡面SUS316L不銹鋼焊接,制程區由耐腐蝕的SUS316L板材組合焊接而成:(3)電氣區設置在設備后上部,與濕區和管路區完全隔離;(4)槽體材料選用耐相應溶液腐蝕的材料;(5)機械手探人濕區部分的零部件表面噴氟或套PFA管處理。應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096 ;18913575037更多全自動濕法去膠清洗機設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的全自動濕法去膠清洗機設備的相關方案
    發布時間: 2017 - 12 - 07
    金屬剝離清洗機-南通華林科納CSE微機電系統(MEMS)是指用微機械加工技術制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機電器件與裝置。其典型的生產工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)設備名稱南通華林科納CSE-金屬剝離清洗機設備系列CSE-CX13系列設備概況尺寸(參考):機臺尺寸 : 1750mmWx1400mmDx1900mmH(具體尺寸根據實際圖紙確定)清洗量:6寸25裝花籃2籃;重量:500Kg( 大約);工作環境:室內放置;主體構造特點外 殼:不銹鋼304 板組合焊接而成。安全門:無安全門,采用敞開式設計;管路系統:藥液管路采用不銹鋼管,純水管路采用CL-PVC管;閥門:藥液管路閥門采用不銹鋼電磁閥門;排 風:后下抽風,動力抽風法蘭位于機臺上部;水汽槍:配有水氣槍各2把,分置于兩側;隔板:藥液槽之間配有隔離板,防止藥液交叉污染;照明:機臺上方配照明(與工作區隔離);機臺支腳:有滑輪裝置及固定裝置,并且有高低調整及鎖定功能。三色警示燈置于機臺上方明顯處。工作槽參數剝離洗槽槽體:不銹鋼316,有效尺寸405×220×260mm;化學藥品:剝離洗液;藥液供液:人工手動加入;工作溫度:60℃并可調;溫度可調;加熱方式:五面體貼膜加熱/投入式加熱器加入熱;液位控制:采用N2背壓數位檢測; 計時功能:工藝時間可設定,并可調,到設定時間后聲鳴提示,點擊按鈕后開始倒序計時;批次記憶:藥液使用次數可記憶,藥液供入時間可記憶,設定次數和設定時間到后更換藥液;排液:排液管道材質為不銹鋼管,按鈕控制;槽蓋:配有手動槽蓋;IPA槽槽體:不...
    發布時間: 2016 - 12 - 05
    管道清洗機設備—華林科納CSE半自動石英管清洗設備適用于臥式或立式石英管清洗優點石英管清洗:臥式—標準/立式—選項 先進的圖形化界面 極高的生產效率 最佳的占地 結合最先進工藝技術 優越的可靠性 獨特的模塊化結構 極其便于維修 應用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可編程使得清洗管旋轉,清洗更干凈 PVDF工藝槽 裝有清洗溶劑的儲備槽(根據使用化學品的數量)放置在工藝槽的后下方 — 直接注入且內部進行不斷循環 特別的噴淋嘴更益于石英管清洗 集成水槍和N2搶 單獨排液系統 安全蓋子 易于操作和控制 節約用酸系統 全自動的清洗工藝步驟 備件 經濟實惠的PP外殼材料—標準更多的石英管道清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 03 - 14
    1、設備概況:主要功能:本設備主要采用手動搬運方式,通過對擴散、外延等設備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的清洗效果。主體采用德國勞士領 瓷白PP板,骨架采用不銹鋼 外包PP 防腐板;設備名稱:半自動石英管清洗機設備型號:CSE-SC-N401整機尺寸(參考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗爐管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物設備形式:室內放置型;節拍:約1--12小時(節拍可調根據實際工藝時間而定)      操作形式:半自動2、設備描述:此裝置是一個半自動的處理設備。PROFACE 8.0英寸大型觸摸屏顯示 / 檢測 / 操作清洗工作過程由三菱 / 歐姆龍PLC控制。3、設備特點: 腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作;結合華林科納公司全體同仁之力,多年品質保障,使其各部分遠遠領先同類產品;設備上層電器控制系統及抽風系統,中層工作區,下層為管道安裝維修區,主體結構由清洗機主體、酸洗槽、水清洗槽、防漏盤、抽風系統、工件滾動系統、氮氣鼓泡系統、支撐及旋轉驅動機構、管路部分、電控部分。本設備裝有雙防漏盤結構,并有防漏檢測報警系統,在整臺設備的底部裝有接液盤。設備配有在槽體下方配有傾斜式防漏層。4、工藝流程:檢查水、電、氣正常→啟動電源→人工上料→注酸→槽體底部氮氣鼓泡→石英管轉動(7轉/min)→進入酸泡程序→自動排酸(到儲酸箱)→槽體底部自動注水(同時氣動碟閥關閉)→懸浮顆粒物經過溢流壩流出→排水碟閥打開(重顆粒雜質排出)→初級潔凈水經過溢流壩溢出→清洗次數重復循環(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽內完成1#,2#可通過循環泵循環使用...
    發布時間: 2017 - 12 - 08
    KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
    發布時間: 2017 - 12 - 08
    WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
    發布時間: 2018 - 01 - 02
    Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
    產品中心 產品中心
    產品列表
    CSE’s Horizontal Quartz Tube Cleaning Stations are designed and built around your quartz tube configuration. All quartz tube cleaners incorporate an acid spray cycle, rinse cycle and an option dry cycle. Once the application is defined we add appropriate options like holding tanks, programmable rinse cycles, bottle washer and T/C sheath cleaner to complete your design. All tube cleaners include all required safety features with sign off drawings. Our expertise in developingquartz tube cleaning stations and outstanding customer support gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support. Quartz Tube Cleaning Station Benefits Include:§ Custom designed around your tube requi...
    實驗室自動配液機(灌裝機)CSE-LIQOUR-II  隨著濕化學設備在LED、太陽能、MEMS、功率器件、分立器件、先進封裝和半導體材料等領域自動化程度的不斷提高,傳統的人工手動配液、補液逐漸由自動配液取代。  然而,在濕制程工藝實驗以及生物配藥實驗等實驗驗證的過程中,大多數還保持著采用量筒量杯逐一調配制程藥液的方法。采用人為手工配置藥液不僅精度得不到保證,而且化學品大多有腐蝕性、毒性等特點(如硫酸H2SO4、硝酸HNO3、磷酸H3PO4、鹽酸HCL、氫氟酸HF、緩沖氧化物刻蝕液BOE等酸性溶液;氨水NH4OH、氫氧化鉀KOH等堿性溶液;NMP溶液、丙酮、甲醇、IPA等有機液),在配比過程中對操作人員具有一定的危險性。  為解決實驗室手動配液的弊端,南通華林科納半導體設備有限公司開發研制了新型實驗室自動配液機(灌裝機)CSE-LIQOUR-II。此配液機專為化學生物制藥工藝實驗室設計,是用來滿足藥液自動配比的設備,通過稱重、流量計準確計量、氣壓輸送或注塞抽取等方式將藥液按照比例輸送,配液精確度能夠達到2‰。  該設備操作自動化,質量好,能預防藥液污染。適用于半導體清洗和藥廠配制普通液體藥劑等用途,具有以下優點:  1)操作安全:系統應具有抗腐蝕性、毒性、耐壓、防燃防爆等功能,保證操作者安全;  2)兼容性:與化學品接觸部分完全與輸送化學品兼容,對化學品零污染;  3)自動控制操作運轉:系統單元與機臺界面自動化;  4)精確配比:系統連續供液(配液、補液)過程中準確可靠,脈動性較好;  5)泄漏警報:檢測泄漏及緊急關閉系統(E-MO);  6)其他:系統自診斷及管路維修保養功能。  作為濕制程設備專業制造商,南通華林科納半導體設備有限公司對實驗室自動配液機(灌裝機)CSE-LIQOUR-II的成功研發,為濕制程工藝實驗室或生物配藥實驗室的精確配比,提升實驗人員的實驗效率提供...
    太陽能單晶制絨清洗機設備-CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業發展,致力于“設備+工藝”的研發模式,現生產的單多晶制絨設備已經形成了良好的客戶基礎和市場影響。生產工藝流程為:預清洗→制絨→擴散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結太陽能電池片濕法設備主要技術特點:1.獨特的雙槽制絨工藝槽設計;2.分立式加熱系統保證溶液均勻性并降低運營成本;3.多通道注入結構實現制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機械傳動特殊設計及人性化安全保證;5.適應性強的工藝過程控制。  在太陽能電池生產中,制絨是晶硅電池的第一道工藝。華林科納CSE的工程師提到對于單晶硅來說,制絨的目的就是延長光在電池表面的傳播路徑,從而提高太陽能電池對光的吸收效率。單晶硅制絨的主要方法是用堿(NaOH、KOH)對硅片表面進行腐蝕。由于硅片的內部結構不同,各向異性的堿液制絨主要是使晶向分布均勻的單晶硅表面形成類似“金字塔”狀的絨面,有效地增強硅片對入射太陽光的吸收,從而提高光生電流密度。對于既可獲得低的表面反射率,又有利于太陽能電池的后續制作工藝的絨面,應該是金字塔大小均勻,單體尺寸在 2~10 μm之間,相鄰金字塔之間沒有空隙,即覆蓋率達到100%。理想質量絨面的形成,受到了諸多因素的影響,如硅片被腐蝕前的表面狀態、制絨液的組成、各組分的含量、溫度、反應時間等。而在工業生產中,對這一工藝過程的影響因素更加復雜,例如加工硅片的數量、醇類的揮發、反應產物在溶液中的積聚、制絨液中各組分的變化等。為了維持生產良好的可重復性,并獲得高的生產效率。就要比較透徹地了解金字塔絨面的形成機理,控制對制絨過程中影響較大的因素,在較短的時間內形成質量較好的金字塔絨面。      單晶制絨的工藝比較復雜,不同公司有各自獨特的制絨方法。一般堿制絨有以下幾種方法:Na...
    全自動硅料清洗機 ---華林科納CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業發展,致力于“設備+工藝”的研發模式,現生產的單多晶制絨設備已經形成了良好的客戶基礎和市場影響。生產工藝流程為:預清洗→制絨→擴散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結太陽能電池片濕法設備主要技術特點:1.獨特的雙槽制絨工藝槽設計;2.分立式加熱系統保證溶液均勻性并降低運營成本;3.多通道注入結構實現制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機械傳動特殊設計及人性化安全保證;5.適應性強的工藝過程控制。特點:1)主要用于對硅材料行業中多晶硅塊進行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動或自動4)材質:根據客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質,保證設備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結構,便于清洗和排渣;  6)設備設有旋轉裝置使工件達到更好的清洗效果;7)頂部設有排霧系統結合酸霧塔進行廢霧、廢水處理避免污染環境;8)PLC控制人機界面操作顯示能根據實際情況更改清洗參數。更多的太陽能光伏清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    全自動硅芯硅棒清洗機---CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業發展,致力于“設備+工藝”的研發模式,現生產的單多晶制絨設備已經形成了良好的客戶基礎和市場影響。生產工藝流程為:預清洗→制絨→擴散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結太陽能電池片濕法設備主要技術特點:1.獨特的雙槽制絨工藝槽設計;2.分立式加熱系統保證溶液均勻性并降低運營成本;3.多通道注入結構實現制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機械傳動特殊設計及人性化安全保證;5.適應性強的工藝過程控制。產品描述1)主要用于對硅材料行業中多晶硅塊進行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動或自動4)材質:根據客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質,保證設備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結構,便于清洗和排渣;  6)設備設有旋轉裝置使工件達到更好的清洗效果;7)頂部設有排霧系統結合酸霧塔進行廢霧、廢水處理避免污染環境;8)PLC控制人機界面操作顯示能根據實際情況更改清洗參數。更多的太陽能光伏清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    顯影清洗機CSE-南通華林科納微機電系統(MEMS)是指用微機械加工技術制作的包括傳感器/微致動器/微能源/等微機械基本部分以及高性能的電子集成線路組成的微機電器件與裝置。其典型的生產工藝流程為:成膜工藝(氧化/CVD:LPCVD PECVD/PVD:濺射/電鍍/摻雜:擴散 注入 退火)→光刻圖形(旋涂/光刻/顯影)→干法/濕法/ 刻蝕(濕法刻蝕/硅刻蝕/SiO?刻蝕/去膠清洗/金屬刻蝕/金屬剝離/RCA清洗)設備概述設備名稱:顯影清洗機整機尺寸:約1000mm(L) ×1260mm(W) ×1900mm(H)(具體尺寸根據實際圖紙確定)主體構造特點設備包括設備主體、電氣控制部分、顯影清洗槽等;并提供與廠務供電、供氣、供水、排廢水、排氣系統配套的接口等主體設備主體使用德國勞士林10mm瓷白PP骨架SUS304+PP德國勞士領板組合而成安全門設備安裝高透明PVC上下推拉安全門,分隔與保護人員安全;邊緣處設備密封條臺面高度約900mm,適合高于1.5米人群操作工藝槽模組化設計,放置在同一個承漏底盤中。底盤采用滿焊接工藝加工而成,杜絕機臺的滲漏危險。管路系統位于設備下部,所有工藝槽、管路、閥門部分均有清晰的標簽注明;藥液管路采用勞士林PP管,純水管路采用積水CL-PVC管,廢液可通過專用管道排放電氣保護電器控制、氣路控制和工藝槽控制部份在機臺頂部電控區,電氣元件有充分的防護以免腐蝕以保障設備性能運行穩定可靠。工作照明上方防酸型照明220V 40W 可更換水氣槍機臺前部配備有PP純水槍和PP CDA槍各一只置左右兩側,水槍滴漏活水設計,方便操作員手工清洗槽體或工件機臺支腳有滑輪裝置及固定裝置并加防腐座,并且有高低調整及鎖定功能安全保障完善的報警和保護設計,排風壓力、液位、排液均有硬件或軟件互鎖,直觀的操作界面,清晰的信息提示,保障了生產、工藝控制和安全性三色警示...
    全自動制絨清洗機設備--CSE南通華林科納CSE密切跟蹤太陽能光伏行業發展,致力于“設備+工藝”的研發模式,現生產的單多晶制絨設備已經形成了良好的客戶基礎和市場影響。生產工藝流程為:預清洗→制絨→擴散→刻蝕→去PSG→PECVD→印刷→燒結太陽能電池片濕法設備主要技術特點:1.獨特的雙槽制絨工藝槽設計;2.分立式加熱系統保證溶液均勻性并降低運營成本;3.多通道注入結構實現制絨工藝槽溶液均勻性控制;4.機械傳動特殊設計及人性化安全保證;5.適應性強的工藝過程控制。產品描述1)主要用于對硅材料行業中多晶硅塊進行清洗干燥處理。2)工藝流程:根據客戶需求定制,可處理腐蝕、清洗、超聲、加熱、干燥、上料 、噴淋 、酸洗、漂洗、下料等工藝;3)控制方式:手動或自動4)材質:根據客戶及工藝需求選用,可選PP、PVC、PVDF、石英、不銹鋼等材質,保證設備的耐用性;5)槽體的槽底均為傾斜漏斗式結構,便于清洗和排渣;  6)設備設有旋轉裝置使工件達到更好的清洗效果;7)頂部設有排霧系統結合酸霧塔進行廢霧、廢水處理避免污染環境;8)PLC控制人機界面操作顯示能根據實際情況更改清洗參數。更多的太陽能單晶多晶硅片制絨腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.hlcas.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    晶圓清洗機設備名稱:晶圓清洗機-CSE產品特點:? 針對21英寸外徑或15x15英寸的基底? 巨聲環境清洗艙(可配備去離子水, 清洗刷, 熱去離子水, 高壓去離子水, 熱氮氣)? 化學注射臂? 帶化學噴射的可變速清洗刷? 觸屏用戶界面? 手動上下載? 安全鎖和報警器? 占地尺寸30”D x 26”W 可選配項:? 化學試劑傳送單元? 白骨化清洗? 臭氧發生器? 氫化雙氧水發生器? 高壓雙氧單元? 硫酸氫過氧化物? 紅外加熱? 雙氧水循環裝置? 機械手上下載單元? 帶EFEM和SMIF界面的 集群系統清洗功能? 晶圓片? 藍寶石外延片? 晶圓框架上的芯片? 顯示面板? ITO膜顯示材料? 有圖形掩膜和無圖形掩膜? 掩膜坯料? 薄膜式掩膜? 接觸式掩膜光刻處理工藝? SPM剝離? 光刻膠涂膜? 光刻膠剝離工藝刻蝕? 金屬刻蝕(鋁,銅,鉻,鈦)白骨化清洗? 在晶圓片上注射硫酸和雙氧水的混合液? 紅外加熱? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干去膠/剝離工藝? 帶紅外加熱的NMP滴膠? 刷洗? 兆聲雙氧水清洗? 熱氮和甩干CMP溶液清洗? 用刷洗和兆聲清洗去除CMP顆粒? 化學噴射臂? 化學噴射罐? 為前面和背面刷洗設計的特殊托盤? 可調速的PVA清洗刷? 可調的清洗刷/晶圓接觸壓力? 刷式化學噴射帶膜/不帶膜式掩膜清洗? 全套清洗(無需更換保護膜)? 全保護膜? 膜式掩膜清洗工藝 1)  掩膜背面清洗后 兆聲雙氧水清洗 刷式清洗 化學清洗 熱氮甩干 2)熱氮甩干更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
    無機清洗機?設備名稱:無機清洗機?設備型號:CSE-JR11-WJ04?整機尺寸(參考):約2000mmL×1400mmW×2000mmH;?硅片尺寸:2寸~6寸?工作環境:室內放置;?操作形式:手動?重量:650Kg( 大約);蘇州華林科納半導體設備技術有限公司由中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所合資成立于2008年3月,投資4500萬元。主要從事半導體設備、太陽能光伏設備、液晶濕制程設備、真空設備的研發、技術推廣和生產銷售。
    硅片濕法清洗技術與設備---華林科納CSE硅片制造過程中,在進行下一步工藝前要獲得 一個潔凈的表面,以保證后道工藝能再一個完全潔 凈的表面上進行,這就需要對硅片進行清洗。清洗是硅片制造過程中重復次數最多的工藝。目前,在 清洗工藝中使用最多的就是濕法清洗技術,華林科納半導體設備公司的硅片濕法腐蝕清洗機在半導體行業得到了很多客戶的認可.1 硅片濕法清洗的種類1.1 刷洗刷洗是去除硅片表面顆粒的一種直接而有效的方法,該清洗技術一般用在切割或拋光后的硅片清洗上,可高效地清除拋光后產生的大量顆粒。刷洗一般有單面或雙面兩種模式,雙面模式可同時清洗硅片的兩面。刷洗有時也與超聲及去離子水或化學液一起配合使用,以達到更好的清洗效果和更高的清洗效率。1.2 化學清洗1.2.1 RCA 清洗20 世紀 60 年代,由美國無線電公司(RCA)研發了用于硅片清洗的 RCA 清洗技術,這種技術成為后來各種化學清洗技術的基礎,現在大多數工廠所使用的清洗技術都是基于最初的 RCA 清洗法。RCA 清洗是按照一定的順序依次浸入兩種標準清洗液(SC-1 和 SC-2)中來完成,這兩種清洗液的使用溫度一般在 80 ℃以內,有時也需要將溶液冷卻到室溫以下。1.2.2 改進的 RCA 清洗RCA 清洗一般都需要在高溫下進行,并且化學液的濃度很高,這樣就造成大量消耗化學液和去離子水的問題。目前,很少有人還按照最初的 RCA化學液配比進行濕法清洗。在 RCA 清洗的基礎上,采用稀釋化學法,將SC-1、SC-2 稀釋到 100 倍以上,也可以達到甚至超過最初的 RCA 清洗效果。改進的 RCA 清洗方法最大的好處是減少了化學液的消耗,可使化學液的消耗量減少 85﹪以上。另外,附加兆聲或超聲能量后,可大大降低溶液的使用溫度和反應時間,提高溶液的使用壽命,大幅度降低了生產成本,同時,低濃度化學液對人體健康和安全方面...
    晶片清洗機設備名稱:晶片清洗機-華林科納CSE清洗對象:本設備適用于2″~8″晶片清洗。 ⑴超聲清洗,加熱清洗為單槽定時控制,到時給予結束提示音。⑵工藝過程:上料→支離子水超聲清洗→去離子水加熱清洗→去離子水沖洗→ 下 料 本設備為柜體式,操作面帶有透明門窗。⑴槽體材料為德國進口聚丙烯(磁白色PP板),焊口采用SS外包5mm厚德國磁白色PP板,外型美觀實用。 ⑵設備超聲,加熱清洗時間由定時器控制。 ⑶加熱槽裝有溫控表(pompon)和傳感器。 ⑷每個清洗槽互不影響,超聲、沖洗清洗槽的上給水(沖洗清洗槽配有熱水)、下排水為手動方式。 ⑸配有可調節式的排風裝置。 ⑹配有美國進口氮氣噴槍。 ⑺電控部分采用密封保護方式配有緊急停機及報警裝置。更多半導體設備可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的設備相關方案
    太陽能硅片制絨腐蝕清洗機-CSE在光伏發電領域,由于多晶硅電池片成本較低,其 市 場 占有率已躍居首位,但相對于單晶硅電池片而言仍存在著反 射率較高、電池效率不足的缺陷。為縮小多晶硅太陽能電池 片與單晶硅太陽能電池片之間的差距,采用織構化多晶硅表 面的方法提高多晶硅片吸光能力是一條行之有效的途徑。目前,多晶硅表面織構化的方法主要有機械刻槽、激光刻槽、反應離子體蝕刻、酸腐蝕制絨等,其中各 向同性酸腐制絨技術的工藝簡單,可以較容易地整合到多晶 硅太陽能電池的生產工序中,同時成 本 最 低,因 而 在 大 規 模 的工業生產中得到了廣泛的應用。更多的太陽能硅片制絨腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    Copyright ©2005 - 2013 南通華林科納半導體設備有限公司
    犀牛云提供企業云服務
    南通華林科納半導體設備有限公司
    地址:中國江蘇南通如皋城南街道新桃路90號
    電話: 400-876- 8096
    傳真:0513-87733829
    郵編:330520
    Email:xzl1019@aliyun.com       www.dianedb.com


    X
    3

    SKYPE 設置

    4

    阿里旺旺設置

    2

    MSN設置

    5

    電話號碼管理

    • 400-8798-096
    6

    二維碼管理

    8

    郵箱管理

    展開
    加拿大28