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    發布時間: 2016 - 03 - 10
    PP通風櫥---華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-PP通風柜 專為氫氟酸及硝化類濃酸設計的實驗室通風櫥,克服了傳統通風柜在高溫濃酸環境下易生銹、變黃、龜裂等缺陷,具有的耐酸堿性能。適用行業:適用于各類研究實驗室---半導體實驗室、藥物實驗室 【產品描述】設備名稱南通華林科納CSE-PP通風柜產品描述【柜體】:采用厚8-12mm瓷白色PP制作,耐酸堿性能優異。經CNC精確裁切加工后,同色同質焊條熔焊修飾處理,表面無銳角。【上部柜體】:排氣柜采用頂罩式抽氣設計,設計有1個∮250mm排風口。導流板采用同質PP材料制作,耐酸堿性能優異。安裝尺寸科學合理,無氣流死角,獲取最大的廢氣捕捉性能。【操作臺面】:臺面采用12mmPP板制作,耐酸堿性能優異。通風柜臺面上水槽根據用戶要求配置。【下部柜體】:儲物柜體,中間加一層隔板。鉸鏈采用黑色塑料鉸鏈,耐腐蝕性能好。拉手采用同質C型PP拉手。【調節門】1. 調節門玻璃:采用厚4mm透明亞克力玻璃制作,耐酸堿性能優異。2.調節門邊框:為厚瓷白色PP板c型槽,嵌入式結合,以確保安全及耐用性。  3.調節門懸吊鋼索:每臺通風柜調節門鋼索連接。4.調節門平衡配重:采無段式配重箱設計,其上下行程具靜音軌道予以限制避免搖晃碰撞。【電器設備】1.開關:按鈕帶燈式自鎖開關,包含風機開關,照明開關,總電源開關。2.照明設備:采用全罩式三防燈具,燈罩內具220v*20w*23.插座部分:每臺通風柜裝設帶防濺蓋220V10A 電源插座2個。設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096;18913575037【詳細參數】產品名稱PP通風櫥產品型號PPFG-120PPFG-150PPFG-180外形尺寸(L×W×H)1200...
    發布時間: 2017 - 04 - 06
    甩干機—華林科納CSESpin-dry machine 設備名稱CSE-甩干機主要功能晶圓或器件的清洗甩干腔體數量單腔/雙腔/四腔尺寸(參考)約L×D×H=面寬480mm×縱深820mm×高度1750mm清洗件規格4寸/5/寸6寸/8寸等尺寸晶圓或器件操作流程人工上貨→DI噴洗加轉子旋轉→HOTN2吹干加轉子旋轉→加速旋干含艙體加熱保溫→完成設備預設之制程結束。工作轉速300—2400r/min主體構造特點外觀材質:本體以W-PP10t板材質組焊組合。設備骨架:SUS25*25*1.2T骨架組合,結構強固。作業視窗:視窗采透明壓克力材質,有效掌握作業情況。管路系統:OneChamber模塊化。排風系統:間接式抽風設計,有效穩定空氣擾流,并同時減低異味。機臺支腳:具高低調整及鎖定功能。機臺正壓保護:采N2正壓保護。機臺微塵控制量:無刷伺服電機去靜電  氮氣控制單元1)管件閥門:SMC電磁閥、PFA高純管件、PTFE氣動閥門。2)氮氣加熱功能:不銹鋼加熱器在線加熱3)低壓氮氣功能:待機時,保持腔內正壓,防止污染。DIW控制單元1)采用旋流式沖洗噴嘴。2)排水口安裝電阻率探頭,對腔體排水水質進行監測。3)沖洗工藝完成后,氮氣將殘留在沖洗管路內的去離子水吹凈。4)待機時,保持回水盒內有水流入且流量可調。電控單元及軟件系統1)控制器操作界面:5.7”記憶人機+PLC可程序自動化控制器(人機TouchScreen)。2)軟件功能:編輯/儲存:制程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作熒幕上修改。3)儲存能力:記憶模塊:參數記憶,配方設定。 更多的甩干機清洗相關設備,可以關注http://www.dianedb.com ,400-8768-096
    發布時間: 2016 - 12 - 05
    干燥系統-華林科納CSE適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術優點NID?干燥系統利用IPA和N2霧化分配,以及晶圓與水脫離時形成了表面張力干燥的技術適用于最大尺寸300mm晶圓的干燥技術 可單臺設備或整合在濕法設備中 最佳的占地 成熟的工藝 無水跡 無碎片應用:拋光片、集成電路、MEMES、LED、光伏、玻璃基片一般特征: 可同時干燥25到50片直徑最大為300mm的晶圓 適用于標準高邊或低邊花籃規格:藝時間: 一般親水性晶圓片: ≤ 10 增加 @ 0.12 μm疏水性晶圓片: ≤ 30 增加 @ 0.12 μm金屬含量: 任何金屬≤ 1?1010 atoms / cm2 增加干燥斑點: 干燥后無斑點IPA 消耗量: ≤ 30 ml / run去邊緣: 3 mm一般安裝參數:尺寸: 660 x 1440 x 2200 (長 x 寬 x 高)標準電壓: 3 x 400 VAC額定功率: 50 Hz標準電流: 3 x 33 A培訓:操作、維護、工藝培訓標準: CE Semi S2 and S8 FM 4910 SECS/GEM可靠性: 平均故障間隔時間 ≥ 800 h 輔助平均間隔時間 ≥ 300 h 可運行時間 ≥ 97 %更多的干燥系統設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 06 - 06
    廢氣處理系統-南通華林科納CSE南通華林科納半導體CSE 的廢氣處理系統可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa; 設備名稱南通華林科納CSE-廢氣處理系統系統說明1.可處理氣體:酸性氣體、堿性氣體、其它特殊氣體,負壓范圍為:-500Pa 至 -1500Pa;2.工藝穩定,負壓波動在15%.3.電壓:380V,三相五線,8KW;4.采用英國廢氣處理系統工藝,CSE在原工藝上經過升級改造,新的系統推出市場后,客戶反映效果較好;系統工作原理為酸性/堿性/其它特殊氣體處理系統,主要由以下幾大部分組成:負壓腔、正壓腔、初級錐形噴淋塔、三級噴淋凈化塔、高壓射流器、抽風孔、負壓動力泵、循環噴淋泵、電控系統;廢氣經過一級錐形噴淋塔進入負壓腔內(每個噴淋塔中間為傘裝型噴頭,對廢氣層形成水封,瞬間中和廢氣)、通過射流器產生負壓把負壓腔內的廢氣抽入正壓腔內中和(在負壓腔與正壓腔之間設有三級噴淋凈化塔,三級噴淋凈化塔內配有PP填料,配有噴嘴,再次充分噴淋中和廢氣)、處理完的氣通過正壓腔上的排氣口排出。成功案例河北普興電子有限公司上海新傲半導體有限公司上海硅酸鹽研究所中試基地蘇州納維科技有限公司設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096 ;18913575037更多半導體行業廢氣處理系統可以關注南通華林科納半導體設備官網www.dianedb.com;現在咨詢400-8768-096,18913575037可立即免費獲取華林科納CSE提供的廢氣處理系統的相關方案。
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    GMP自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-GMP自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-GMP自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    研磨液自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-研磨液自動供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-研磨液自動供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形下可...
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    SPM腐蝕清洗機設備——華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備。其中SPM自動清洗系統設備主要用于LED芯片制造過程中硅片表面有機顆粒和部分金屬顆粒污染的自動清洗工藝。設 備 名  稱南通華林科納CSE-SPM腐蝕酸洗機適 用 領  域LED外延及芯片制造設 備 用 途硅晶片化學腐蝕和清洗的設備基 本 介 紹主要功能:通過對硅片腐蝕、漂洗、等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的效果可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等被清洗硅片尺寸:2-8寸(25片/藍)設備形式:室內放置型操作形式:自動設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096;18913575037更多的全自動半導體SPM腐蝕清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
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    最終清洗機-華林科納CSE華林科納CSE濕法處理設備是國內最早致力于集成電路濕法設備的研制單位,多年來與眾多的集成電路生產企業密切合作,研制開發出適合于4吋-8吋的全自動系列濕法處理設備設備用途: 清洗槽用于6/8吋兼容,集成電路制造工藝的最終清洗。配合LOAD and UNLOAD的上下料,實現干進干出,每批次50枚Cassette Type的高效清洗。共有三種工藝槽,三水槽+一個干燥單元:1個DHF清洗槽、1個OF槽、1個SC-1槽、1個QDR槽、1個SC-2槽、1個QDR槽、1個干燥槽。設備功能:●Chemical BATH: 自動換酸,自動洗槽,自動槽內配比。●DIW BATH : Pre Flow and After Change Function。●S/D : 6/8 Inch 自動換位,旋干。●機械手臂:Chuck Open/Close Type,Speed 為可控變動;●Scheduler: 排程計算,實現多批次同時清洗,不發生Process Over Time。●Safety: Door,TEMP,LEVEL,Exhaust…等等INTERLOCK Safety。設備工藝流程:●進貨區(LOAD)→DHF(100:1)→OF 槽→SC-1 槽→QDR 槽→SC-2 槽→QDR 槽→S/D 槽→→出貨區(UNLOAD)●High WPH Type: AWB200-T。雙Cassette 50 枚/槽。●6/8 inch 兼容Cassette Type。●前面式機械手臂: ARM-1、ARM-2、ARM-3 共三套。●機臺上部設有高效過濾器(FFU)。 工藝技術指標:1. 該設備應實現全自動作業,可自動過程控制工藝、沖水及干燥全套作業,并具備自動供液、自動洗槽、SC1-1槽帶有兆聲;可編程選擇工藝槽及工藝時間進行清洗。2. 通過DHF/SC...
    管道清洗機設備—華林科納CSE半自動石英管清洗設備適用于臥式或立式石英管清洗優點石英管清洗:臥式—標準/立式—選項 先進的圖形化界面 極高的生產效率 最佳的占地 結合最先進工藝技術 優越的可靠性 獨特的模塊化結構 極其便于維修 應用 清洗不同尺寸的石英管一般特征 可編程使得清洗管旋轉,清洗更干凈 PVDF工藝槽 裝有清洗溶劑的儲備槽(根據使用化學品的數量)放置在工藝槽的后下方 — 直接注入且內部進行不斷循環 特別的噴淋嘴更益于石英管清洗 集成水槍和N2搶 單獨排液系統 安全蓋子 易于操作和控制 節約用酸系統 全自動的清洗工藝步驟 備件 經濟實惠的PP外殼材料—標準更多的石英管道清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    零部件清洗機_華林科納CSECleanStep的零部件被設計用于PECVD刻蝕清洗設備,以及石墨舟、石英舟、碳化硅舟等擴散舟的刻蝕和清洗設備。優點 通過關閉的工藝腔室的安全操作,加載和僅一次工藝腔室沖洗之后卸載,完成整個工藝過程。 安全門自鎖裝置 工藝腔室保護防止水溢流 排風監控部件 用于門自鎖的電導傳感器(僅適用于石英舟清洗設備) 簡便、安全操作的高品質觸摸屏 很少的化學品消耗產生最小的生產費用,與浸泡式工藝相比至少節約2-3倍 減少了操作次數 化學品的消耗,與浸泡式工藝相比要少于大約10倍 穩定的清洗工藝,水的消耗,與浸泡式工藝相比少于2倍 設備高利用率和低維修率,得益于它獨特的模塊化設計和長壽命零部件的應用 最佳的占地應用CleanStep的零部件被設計用于PECVD刻蝕清洗設備,以及石墨舟、石英舟、碳化硅舟等擴散舟的刻蝕和清洗設備。標準化設計的設備是用于2個石墨舟或4個石英舟的清洗。同時也強有力的證明了用噴淋工藝代替浸泡工藝不僅節約了工藝時間,同時也節約了化學品的消耗量。選項 廢液槽起重裝置 系統外殼結構[FM認可材質] HF有毒氣體檢測裝置 Centrotherm 一套石墨舟花籃可裝載19片到21片晶圓«可拆卸石墨舟« Centrotherm 一套石墨舟可裝載23片«可拆卸石墨舟« 石英部件清洗的石英舟夾具 漏液盤連接閥 電阻率監測裝置 手動加載花籃干燥的烘干箱 30升的HNO3 / HF/ DI-H2O的預備槽 獨立的設備化學品供應用于回收用過的HF 氮氧化物有毒氣體檢測裝置 晶圓背面腐蝕的ACL片盒夾 N2 凈化更多的半導體零部件清洗機設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    1、設備概況:主要功能:本設備主要采用手動搬運方式,通過對擴散、外延等設備的石英管、碳化硅管腐蝕、漂洗等方式進行處理,從而達到一個用戶要求的清洗效果。主體采用德國勞士領 瓷白PP板,骨架采用不銹鋼 外包PP 防腐板;設備名稱:半自動石英管清洗機設備型號:CSE-SC-N401整機尺寸(參考):4500mm*1500mm*2100mm;被清洗爐管尺寸(Max):也可清洗其它可放入清洗槽中的石英器皿等被清洗物設備形式:室內放置型;節拍:約1--12小時(節拍可調根據實際工藝時間而定)      操作形式:半自動2、設備描述:此裝置是一個半自動的處理設備。PROFACE 8.0英寸大型觸摸屏顯示 / 檢測 / 操作清洗工作過程由三菱 / 歐姆龍PLC控制。3、設備特點: 腐蝕漂洗能力強,性能穩定,安全可靠;設備成本合理,自動化程度高,使用成本低;技術先進,結構合理,適宜生產線上大批次操作;結合華林科納公司全體同仁之力,多年品質保障,使其各部分遠遠領先同類產品;設備上層電器控制系統及抽風系統,中層工作區,下層為管道安裝維修區,主體結構由清洗機主體、酸洗槽、水清洗槽、防漏盤、抽風系統、工件滾動系統、氮氣鼓泡系統、支撐及旋轉驅動機構、管路部分、電控部分。本設備裝有雙防漏盤結構,并有防漏檢測報警系統,在整臺設備的底部裝有接液盤。設備配有在槽體下方配有傾斜式防漏層。4、工藝流程:檢查水、電、氣正常→啟動電源→人工上料→注酸→槽體底部氮氣鼓泡→石英管轉動(7轉/min)→進入酸泡程序→自動排酸(到儲酸箱)→槽體底部自動注水(同時氣動碟閥關閉)→懸浮顆粒物經過溢流壩流出→排水碟閥打開(重顆粒雜質排出)→初級潔凈水經過溢流壩溢出→清洗次數重復循環(人工控制)→下料。 酸洗和水洗在同一槽內完成1#,2#可通過循環泵循環使用...
    Drying system CSE  AdvantageThe CSE drying system uses IPA and N2 atomization, as well as the shape of a wafer from water.The technique of surface tension dryingDrying technology suitable for maximum size 300mm wafer can be single device or integrated in wet equipment the best area of landMature processNo water traceNo fragments Features and advantages ApplicationPolished chips, integrated circuits, MEMES, LED, photovoltaic, glass substratesGeneral characteristics can dry 25 to 50 pieces of wafer with a maximum diameter of 300mm at the same time for standard high or low side flower basketsSpecificationsProcess time: generally Hydrophilic wafer: less than 10 increase @ 0.12 MHydrophobic wafer: less than 30 increase @ 0.12 MMetal content: any metal is less than or equal t...
    Wet Equipment-CSE  Wet equipment Nantong CSE Semiconductor Equipment Co. Ltd. is suitable for many applications, including cleaning, etching, stripping, developing etc. Advantages of CSE wet process equipment wet equipment is suitable for many applications, including cleaning, etching, degumming and developing covers an area of small area reliability is strong unique module structureEasy maintenance and maintenance, low cost maximum compatible applicationEach module's separate air exhausting device easy to install and update modules based on the manipulator system Characteristics and advantagesMany different cleaning processes, such as RCA, IMEC, Pre-Diffusion, Pre-Metal, and various etching processes, including oxidationCompounds, nitrides, polysilicon, metals, silicide...
    CSE chemical management systemThe automatic chemical management system is designed for the semiconductor industry, the micromachinery industry, and the Guang FuyeThe management of various acids, solvents and corroding agents used in it CSE chemical management systemAdvantage high securityLow cost 99.9% normal running time upgrades system covers an area of small areaA cross connection sold on a common marketTouch screen control The family members of the CSE chemical management system include chemical mixing, distribution and waste liquid recovery systems. Full automatic specialIt makes the product meet the requirements of the Fab workshop. These systems have the highest security and provide the greatest possible protectionWet equipment. The product is specially designed to be appl...
    KOH etching is a chemical process used for the fabrication of silicon nanostructures. This etching process has been studied extensively in both research and real-world applications.CSE  provides individualized solutions for customers that want to use this process by using theKOH etching tank along with their existing wet bench equipment. All ofCSE’s KOH tanks are manufactured on site and built per your specifications. All PFA material is used for cleanliness and compatibility.Definition of KOH EtchingPotassium Hydroxide (KOH) etching is a wet chemical etching process used to create cavities in silicon. Highly corrosive alkaline chemical compound (pH 12) is used in conjunction with DI water and thermal regulation. The etch rate is limited; and the precision of Si etching...
    Manual wet cleaning equipment CSE/Ventilator CSE's manual wet equipment is a low cost, and it hasHigh level technology and highly active equipment. Our aim is to have youLimited automation should not be prevented from being brought to the end of your high end software and process controlThe economic benefits, this is the classic MANUAL WETPROCESSOR or "A ventilator. AdvantageModularized designCustomizable, extensible, and adjustable modular design to meet customer's special needsModular design, easy to insert and install module the best area of land the equipment shell itself can also be used as a ventilator the operation of a clever inverter or a passive device equipment shell can be made by customers to make use of different materials applicationThe wet proces...
    WET PROCESSING-MANUAL WET BENCHESWet Processing Manual Wet Bench Stations for Clean Room ApplicationsCSE’s wet processing manual wet benches are available in a wide variety of configurations. Standard construction will support both acid and solvent applications. Our standard wet benches give you all of the process and safety features as our fully automated or semi-automatedwet bencheswithout the extra cost for robotics. Our electrical and mechanical engineers prepare sign off drawings for each wet bench order. Our 30 plus years of continues business operation gives you the satisfaction you deserve. All process, etching or cleaning components are built and designed in-house giving you complete turnkey support.Benefits of Wet Processing Manual Benches:§ High end manual eq...
    Single cavity vertical dryer -CSEApplication of CSE cleaning system to various cleaning and drying processes AdvantageCSE cleaning system is applied to various cleaning and drying processesDifferent configurations (devices that can be placed on desktop operations, single independent, double chambers) for wafer size to 200mm best area, equipment with rollers can be movedSuperior reliabilityUnique modular structure it is extremely easy to repairEasy to use and operate The cleaning and drying machine is equipped with two kinds of automatic and manual systems. It is capable of complicate and different process requirements. Its stability and ease of operation will bring additional economic benefits to any factory. RinseSte can handle wafers of different sizes. The software program th...
    CSE Automatic electroless electroless equipmentAdvantageThe wet process system is used for electroless aluminum plating, copper substrate material (Ni, Pd, Au)(metal UBM under convex points)Suitable for size to 300mm waferThe longest service life benefits from the most advanced software and hardware maximum reliability and compatibilityEffective support for using Fraunhofer Technology maximum capacityMore bottomed production costs CSE fully automatic electroless electroless equipment (Hua Xuedu), design and ApplicationA wafer with a maximum high capacity diameter of 300mm, unique software and hardware guaranteeLong life and unrivalled low production costs.The real-time analyzer and the optimized dosage of the process have excellent process control ability. Features and advantages...
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