3月20日，第二屆華林科納泛半導體濕法培訓會在南通華林科納半導體設備有限公司成功舉辦。這屆培訓會以“以聲共匯平臺，以友共筑數據”的主題面向芯片設計、晶圓制造、封裝測試、材料和設備以及下游應用產業鏈多個群體。培訓會進一步聚焦泛半導體濕法行業發展新動態、新趨勢、新技術及創新項目，深入探討濕法工藝的發展模式和行業發展趨勢。

中環科技、協鑫集團、三安光電、有研硅股、天科合達、中電科集團研究所、中科院半導體所、清華大學、浙江大學、中科大等多家單位代表出席培訓會，國內近50家半導體知名企業與大學研究所80余人參加培訓會。

本次培訓會面向濕制程設備實際使用者，主要由濕法行業領導者華林科納牽頭，匯集了濕法工藝&設備、濕制程的化學品知識、水處理知識、超聲/兆聲清洗知識、專業計量儀器應用知識等產業鏈各環節的優秀課程。每個課程的演講者都是來自國際一流或者國內頂尖的供應鏈，無一不代表著當下產業內的領先水平。

課程首先由華林科納項目總監高艷帶來的《濕法設備與工藝解析》，深入淺出的原理介紹了濕法清洗在半導體領域的影響。制程工藝每推進一代，清洗步驟增加約15%。半導體器件集成度和芯片復雜度的提高，使得芯片對雜質的敏感度大大提升。在工藝節點不斷推進的前提下，為了降低雜質影響、提高良率，需要繼續增加清洗步驟。

而受當前國際疫情形勢影響，且國內半導體行業在國家的大力發展下，本土清洗設備市場國有化率約為20%，國產化有望進一步加快。與國外日本公司占據清洗機行業主導地位相比，以華林科納為代表的國產濕法設備制造商在槽式領域已具有一定競爭力。

在分析了濕法設備的市場背景后，高總監從通用的RCA清洗工藝知識的展開，介紹了各種SC1、SC2、HF/BOE等Chemical在清洗過程中起到的作用及效果分析，鞭辟入里地從專業的角度對濕法清洗設備關于Clean、Etch、Photoresist Removal & Development Process的相關工藝的影響與效果進行了闡述與分析。

另外，華林科納特約各領域專業講師也分別從濕法相關的純水機知識、濕法過程中使用的化學品、超聲/兆聲清洗工藝原理以及在濕法設備中的應用、精密儀器在濕法設備中的應用、廢液廢氣的處理方案等專業領域對進行了分享，全程會議干貨滿滿，收獲頗豐。

結合理論授課，在華林科納實訓廳，各供應鏈專業制造商也提供實物給學員們能夠近距離的觀測設備與零件。現場，專業工程師對全自動酸腐蝕機、化學品恒溫機、Marangoni干燥機、智能配液機等各種核心裝備進行了原理、使用注意點、維護保養知識的講解，打造了一個高水平、高開放度和高自由度的培訓交流平臺。

由華林科納打造的千級濕法實驗室，用于提供濕法工藝實驗驗證和核心功能模塊演示服務。在此次培訓會首次對外開放，也迎來了首批使用者，來自清華大學的張老師在濕法實驗室進行了背面腐蝕的實驗。

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基于首屆泛半導體濕法培訓會的基礎，本屆培訓會，主辦方華林科納進一步提升專業化、新型化、高端化，提升大會的品牌形象和影響力，確立了“高標準、專業性”的要求，促進了行業細分領域的成長，彌補供需雙方的痛點和盲區，充分展示了技術聚集的優勢，增強了企業間的互助與合作。

華林科納泛半導體濕法培訓會議將每半年舉辦一次，進行常態化舉辦。作為國內最早期進入濕法設備領域的品牌，主辦方華林科納即將完成由設備制造商向技術型服務商轉變的過程，爭取為中國半導體行業的人才培養、技術演進貢獻出自己的力量。