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    發布時間: 2017 - 12 - 06
    在LED外延及芯片制造領域,濕法設備占據約40%以上的工藝,隨著工藝技術的不斷發展,濕法設備已經成為LED外延及芯片制造領域的關鍵設備,如SPM酸清洗、有機清洗、顯影、去膠、ITO蝕刻、BOE蝕刻、PSS高溫側腐、下蠟、勻膠、甩干、掩膜版清洗等。南通華林科納CSE深入研究LED生產工藝,現已形成可滿足LED產業化項目需求的全自動濕法工藝標準成套設備。 LED 芯片的制造工藝流程為:外延片→清洗→鍍透明電極層→透明電極圖形光刻→腐蝕→去膠→平臺圖形光刻→干法刻蝕→去膠→退火→SiO2 沉積→窗口圖形光刻→SiO2腐蝕→去膠→N極圖形光刻→預清洗→鍍膜→剝離→退火→P 極圖形光刻→鍍膜→剝離→研磨→切割→芯片→成品測試。 CSE-外延片清洗機設備 設備名稱南通華林科納CSE-外延片清洗機設備可處理晶圓尺寸2”-12”可處理晶圓材料硅、砷化鎵、磷化銦、氮化鎵、碳化硅、鈮酸鋰、鉭酸鋰等應用領域集成電路、聲表面波(SAW)器件、微波毫米波器件、MEMS器件、先進封裝等專有技術系統潔凈性技術均勻性技術晶圓片N2干燥技術模塊化系統集成技術自動傳輸及精確控制技術溶液溫度、流量和壓力的精確控制技術主要技術特點系統結構緊湊、安全腔體獨立密封,具有多種功能可實現晶圓干進干出采用工控機控制,功能強大,操作簡便可根據用戶要求提供個性化解決方案設備制造商南通華林科納半導體設備有限公司 www.dianedb.com 400-8768-096 ;18913575037更多的外延片清洗設備相關資訊可以關注華林科納CSE官網(www.dianedb.com),現在熱線咨詢400-8768-096可立即獲取免費的半導體行業相關清洗設備解決方案。
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    旋轉式噴鍍臺結合微組裝工藝對鍍制工藝的小批量、多規格和特殊應用要求等特點,在6" (150mm)晶圓電鍍系統中采用了傾斜式旋轉噴鍍技術傾斜式旋轉噴鍍單元分由兩個部分組成,一為陰極夾具、旋轉單元、導線電刷、N2 保護單元組成的陰極回轉體,二為三角形槽體、陽極和電力線擋板組成的陽極腔。傾斜旋轉噴鍍結構示意圖如下:從鍍制結構方式、鍍制工藝應用分析可以看出,采用傾斜式旋轉噴鍍有以下幾種優勢。一是這種結構方式易實現槽體密封和附加N2 保護功能。二是在這種鍍制工藝中,陰極的旋轉運動使槽內電場不均問題得以解決,從而提高了鍍制的均勻性。三是呈45°傾斜加陰極旋轉的方式,可以較容易的祛除晶圓表面的氣泡附著及“產生”氣泡的消除。四是采用了多微孔進行鍍液噴射,實現攪拌功能,消除局部PH值、溫度、離子濃度等不均勻帶來的影響。五是采用三角形鍍槽設計最大限度的減少了鍍液的消耗。六是該鍍制結構方式可以滿足多品種、小批量、低成本的生產需求。傾斜旋轉噴鍍技術、工藝優勢斜式三角鍍槽結構本系統采用傾斜式三角形鍍槽結構,鍍槽入口溢流口均與三角形斜邊平行,可得到穩定且不易積累氣泡的流場環境。通過進行相關模擬、仿真和驗證,鍍液入口采用扇形噴咀式結構,可保證鍍液在平行于陰極表面方向上形成均勻而穩定的流場。從而通過改變流場的方法改善了鍍層的均勻性。該結構的另一優點可使電鍍液的用量減至最少程度。 南通華林科納CSE采用傾斜旋轉噴鍍方法進行晶圓電鍍工藝處理,由于結構上的特點,該方法經實驗驗證具有:①結構簡單;②工藝參數控制容易;③有利氣泡的消除;④鍍制均勻性得到提高;⑤鍍制溶液用量少。該方法尤其適應于小批量、多規格的電鍍工藝,同時可以取得較好的鍍制均勻性。圖6為我們所研制的150mm晶圓傾斜旋轉噴鍍系統,目前已批量生產并在工藝線上得到較好的應用,產品已通過技術定型鑒定和用戶驗收。實現的主要工藝指標:最大晶...
    發布時間: 2016 - 06 - 22
    雙腔甩干機1. 應用范圍:l 本機臺適用於半導體7”晶圓(含)以下之旋乾製程.l 設備為垂直式雙槽體機臺,可同Run 50~100片.l 可對旋乾步驟進行可程式化控制 (Recipe Program).l 具使用在此設備已超過20年以上的應用馬達控制系統設計, 高穩定度Rotor 設計, 震動值均控制於300 um 以下.l 高潔淨設計,微塵控制於每次運轉增加量, 0.3um , 30顆以下.   2. 操作流程3. 圖示 4. 規格l 機臺內皆使用鐵氟龍製DI , N2 控制閥件l 直流式馬達: DC無刷馬達750Wl 真空負壓軸封設計,隔離槽外污染l 不銹鋼N2過濾器 0.003~0.005μml 氣體加熱器及加熱墊控制乾燥速率l 壓力感測保護(加熱器空燒保護)l 槽外貼Silicon材質加熱墊 x1 片, 220VAC , 300W(溫度開關90°C OFF 70°C ON)l  Viton材質充氣式氣囊及槽後密封環,保持室外絕緣l 不銹鋼槽體SS316經拋光及電解研磨l 單顆螺絲固定轉子,並按客戶需求指定使用訂做l 轉子經拋光及電解研磨,並做動態平衡校正l 可選擇指示燈訊及蜂鳴器音樂故障碼功能: 門鎖警告,氣體不足,傳動異常警告 5. 電控系統l  控制器操作介面: 5.7”記憶人機+ PLC可程式自動化控制器(人機 Touch Screen,整合介面) 。l 軟體功能Ø 編輯/儲存 : 製程/維修/警示/編輯/配方/,皆可從操作螢幕上修改。Ø 儲存能力記憶模組...
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    枚葉式清洗機-華林科納CSE南通華林科納半導體CSE-單片枚葉式洗凈裝置的特長:單片式清洗裝置的優點(與浸漬.槽式比較)1.晶片表面的微粒數非常少(到25nm可對應)例:附著粒子數…10個/W以下(0.08UM以上粒子)(參考)槽式200個/W2.藥液純水的消費量少藥液…(例)1%DHF的情況  20L/日純水...每處理一枚晶片0.5-1L/分3.小裝置size(根據每個客戶可以定制) 液體濺射(塵埃強制除去)  (推薦)清洗方法單片式裝置的Particle再附著問題   更多的半導體單片枚葉式濕法腐蝕清洗設備相關信息可以關注華林科納CSE官網(www.hlkncas.com),現在熱線咨詢400-8768-096;18913575037可立即獲取免費的半導體清洗解決方案。
    發布時間: 2016 - 03 - 07
    自動供酸系統(CDS)-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-CDS自動供酸系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式設備名稱南通華林科納CSE-CDS自動供酸系統設備型號CSE-CDS-N1507設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在自動模式情形...
    發布時間: 2018 - 01 - 23
    單片清洗機-華林科納CSESingle wafer cleaner system南通華林科納CSE-自動單片式腐蝕清洗機應用于清洗(包括光刻板清洗)刻蝕 去膠 金屬剝離等;可處理晶圓尺寸2'-12';可處理晶圓材料:硅 砷化鎵 磷化銦 氮化鎵 碳化硅 鈮酸鋰 鉭酸鋰等;主要應用領域:集成電路   聲表面波器件  微波毫米波器件  MEMS  先進封裝等  設 備 名 稱CSE-單片清洗機類  型單片式適 用 領 域半導體、太陽能、液晶、MEMS等清 洗 方 式2英寸——12英寸設備穩定性1、≥0.2um顆粒少于10顆2、金屬附著量:3E10 atoms/ cm²3、純水消耗量:1L/min/片4、蝕刻均一性良好(SiO?氧化膜被稀釋HF處理):≤2%5、干燥時間:≤20S6、藥液回收率:>95%單片式優點1、單片處理時間短(相較于槽式清洗機)2、節約成本(藥液循環利用,消耗量遠低于槽式)3、良品率高4、有效避免邊緣再附著5、立體層疊式結構,占地面積小 更多的單片(枚葉)式清洗相關設備可以關注南通華林科納半導體官網,關注http://www.dianedb.com ,400-8768-096,18913575037
    發布時間: 2017 - 12 - 06
    氫氟酸HF自動供液系統-南通華林科納CSEChemical Dispense System System 南通華林科納半導體CSE-氫氟酸供液系統 適用對象:HF、HN03、KOH、NH4OH、NaOH、H2SO4、HCL、 H2O2、IPA等主要用途:本設備主要用于濕法刻蝕清洗等制程工程工序需要的刻蝕液集中進行配送,經管道至設備;具有自動化程度高,配比精確,操作簡便等特點;具有良好的耐腐蝕性能。控制模式:手動控制模式、自動控制模式 設備名稱南通華林科納CSE-氫氟酸(HF)供液系統設備型號CSE-CDS-N2601設計基準1.供液系統(Chemical Dispense System System)簡稱:CDS2. CDS 將設置于化學房內:酸堿溶液CDS 系統要求放置防腐性的化學房;3. 設備材質說明(酸堿類):酸堿溶液CDS外構采以WPP 10T 板材,內部管路及組件采PFA 451 HP 材質;4. 系統為采以化學原液 雙桶/單桶20L、200L、1t等方式以Pump 方式運送到制程使用點;5. 過濾器:配有10” PFA材質過濾器外殼;6. 供液泵:每種化學液體配有兩臺或者一臺 PTFE材質的進口隔膜泵;7. Empty Sensor & Level Sensor:酸堿類采用一般型靜電容近接開關;8. 所有化學品柜、歧管箱及閥箱均提供泄漏偵測器與警報功能。CDS系統設備規格 1. 系統主要功能概述設備主要功能:每種化學液體配兩個桶(自動切換)、配兩臺泵(一用一備)、帶過濾器;系統控制單元:配帶OMRON 8”彩色觸摸屏,OMRON品牌PLC系統;2. 操作模式: CDS 系統皆有PLC 作Unit 內部流程控制,操作介面以流程方式執行,兼具自動化與親和力。在...
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    理解波導:增強現實近眼顯示器的關鍵技術

    時間: 2021-02-26
    點擊次數: 15

    增強現實(AR)便攜式和可穿戴設備的市場正在迅速增長。在各種硬件實現形式中,帶透明眼鏡的頭戴式顯示器(HMD)或近眼顯示器(NED)可提供最有效和身臨其境的AR體驗。由于其輕薄的特性,光波導被認為是消費級增強現實(AR)眼鏡的無與倫比的選擇,但由于其價格高昂和技術壁壘,它仍然被禁止。隨著諸如Hololens IIMagic Leap One之類的主流AR可穿戴設備采用波導解決方案并展示了其批量生產能力,以及最近披露的針對AR光模塊制造商DigiLensNedARLingXi的融資新聞,波導已成為人們關注的焦點。 AR玻璃行業的熱門話題。

    光波導在AR NED系統中如何工作?所謂的“陣列波導”,“幾何波導”,“衍射波導”,“全息波導”和“體積波導”之間是什么關系?波導是如何在使AR玻璃行業發生革命的過程中開發的?

    1.光波導—隨需應變

    光學系統通常由用于VRAR近眼顯示器(NED)的微型顯示器和成像光學系統組成。微型顯示器可以像微型OLED或時尚的微型LED面板一樣主動提供圖像,也可以通過在基于液晶的顯示器(包括透射型LCD和反射型LCOS),數字微鏡器件(DMD)和激光上間接照明來間接提供圖像光束掃描儀(LBS)均由微機電系統(MEMS)啟用。與VR相似,顯示像素被成像到一定距離并形成虛擬圖像以投射到人眼。與VR不同,AR NED需要“透視”功能,以便眼睛能夠同時查看現實世界。成像系統無法阻擋正視圖,因此,這需要一個或幾個附加的光學元件來形成“光學組合器”。光學組合器反射虛擬圖像,同時將外部光傳輸到人眼,將虛擬內容疊加在真實場景的頂部,以使它們相互補充和“增強”。

    理解波導:增強現實近眼顯示器的關鍵技術?

    AR NED市場上已經展示了多種光學組合器解決方案,這些解決方案通常以反射鏡或部分反射鏡,透鏡或棱鏡為代表。反射表面可以是平坦的,彎曲的或自由形成的,而某些表面可以是偏振的。在這里,我們使用一種簡單的方法對光學解決方案,它們在市場上的代表產品進行分類,并簡要比較它們的特性。由于有關不同光學解決方案的文章已經非常豐富,因此在此我們將不進行詳細介紹,而將重點放在光波導上。顯然,目前還沒有理想的解決方案,因此所有人都可以一起繁榮發展。每個AR玻璃產品都需要根據目標方案或用例選擇最合適的玻璃,

    不過,在所有當前的光學解決方案中,我們認為,基于其光學性能,外觀和批量生產能力,光波導具有實現消費級AR眼鏡的最大潛力。

    理解波導:增強現實近眼顯示器的關鍵技術?

    2.波導技術的優缺點

    光波導技術是最近作為一種獨特的光合路器而引入的,因為它通常不承載光功率。但是,這并不是一個全新的概念,其原理與通信網絡的光纖相同。唯一的區別是,在我們的案例中,后者傳輸的是紅外光而不是可見光。為了使光像游泳蛇一樣在波導內部來回反射,“全內反射(TIR)”是關鍵。要進行TIR,必須滿足兩個條件:(1)波導中的高折射率材料(n1> n2);(2)光的入射角大于臨界角θc

    光學引擎生成虛擬圖像后,波導將圖像耦合,然后通過TIR在幾乎零泄漏的情況下將其傳輸到玻璃基板內部,然后在到達觀看者的眼睛位置時將圖像耦合出去。在整個過程中,波導通常不會影響圖像本身,因此它是獨立于成像系統的光學組合器。

    理解波導:增強現實近眼顯示器的關鍵技術?

    使用波導作為光學組合器的最大優勢是AR眼鏡設計中的空間優化。通過使微顯示器和成像光學器件不受干擾(位于額頭頂部或側面),不僅可以最大程度地減少視力障礙,還可以優化設備的重量平衡并改善人體工程學。下面列出了波導配置的優缺點,并將在本文的全文中進行解釋。

    優點

    大眼罩和改進的機械公差以適應更多的人群-1D2D出瞳擴展。

    視野清晰和重量平衡-波導將虛擬圖像傳輸到眼睛。

    眼鏡外觀,接近消費品-扁平且薄的目鏡,良好的外部透光率。

    適用于設計迭代和批量生產-具有定制輪廓,納米加工的平板玻璃基板。

    多層可堆疊—在3D深度下創建不同深度的虛擬圖像。

    ?插件

    相對較低的光學效率-低的輸入/輸出耦合效率,并且犧牲了大眼罩。

    幾何波導:復雜的制造工藝,可能的低成品率。

    衍射波導:衍射引起的色散會導致彩虹和霧霾影響圖像質量。

    衍射波導:高設計壁壘。

    理解波導:增強現實近眼顯示器的關鍵技術?

    3.波導類別和比較

    如上所述,波導的主要部分是透明的薄玻璃基板(厚度通常在亞納米到幾納米之間變化),由于TIR的緣故,光在頂面和底面之間反射的光很少泄漏。如果對波導中允許進行TIR的輸入角度范圍進行計算,則會發現視場(FOV)受玻璃折射率的限制。因此,為了獲得更高的FOV,康寧和肖特等玻璃制造商正在以晶圓規模開發高折射率玻璃基板,特別是針對該市場。

    使波導技術彼此不同的地方在于用于將光耦合進出波導的結構,它們之間通過光的TIR傳輸連接。光波導通常可分為幾何類型和衍射類型。幾何波導是所謂的“陣列波導””,它通過一系列透反射鏡在一個維度上擴展了眼盒。幾何波導的領先光學公司是Lumus。到目前為止,市場上還沒有成熟的AR玻璃產品,但數量很多。衍射波導覆蓋表面浮雕光柵(SRG)結構和體積全息光柵(VHG)結構。HololensMagic Leap都使用SRG結構,而Digilens則是VHG的先驅以及去年蘋果公司采用的AkoniaVHG技術相對不那么成熟,目前提供有限的FOV,但可能會提供更好的色彩性能。由于篇幅的限制,我們將首先介紹幾何波導,并將衍射波導保存到下一次。

    1)幾何波導

    幾何波導大約是在二十年前首次引入的,并由以色列公司Lumus率先開發。如圖5a)所示,來自光學引擎的光通過反射鏡或棱鏡結構耦合到波導中。當到達觀看者眼球正前方的位置時,玻璃基板內部會發生多個TIR反射,光線會遇到一系列透反射表面以釋放圖像。甲透反射(透射+反射)表面以一定角度嵌入波導基板內部,以將一部分光反射到我們的眼睛,并使其余的光通過以進一步傳播。它還可以傳輸來自現實世界的光,以用作光學組合器。然后,透射光遇到另一個透反射表面,并重復相同的透射和反射過程。

    在常規的光學成像系統中,光僅通過所謂的“出射光瞳”出射。在此,透反射表面會重復幾次以提供相同的圖像輸出,從而在水平方向上擴大出瞳。這種設計稱為“一維出射光瞳擴展(EPE) ”。您可能想知道,多個出瞳會在我們的眼睛中造成雙像還是陰影像?不用擔心,出瞳只是虛擬圖像的“傅立葉平面”,人眼將通過其唯一的透鏡將該平面的角度信息轉換為空間信息。然后圖像在“圖像平面”上形成-我們的視網膜,所有處于相同角度的光線(即使它們來自不同的出瞳)也會合并到同一像素上,因此只能生成一張圖像。它可能有點抽象而無法理解,但這是EPE的本質。例如,如果到波導的輸入光束的直徑為4毫米,而沒有EPE結構,則輸出光瞳將保持為4毫米,因為波導除了傳輸光以外沒有對光進行任何修改。這意味著您的眼睛只能在瞳孔中心在此4毫米范圍內移動的情況下清楚地看到虛像。通過實施EPE結構,出瞳可以擴展到10毫米以上,從而使您的眼睛的運動盒更大。

    對于AR眼鏡來說,眼盒對于適應不同瞳距的用戶來說非常重要,視年齡,性別等,瞳距在51毫米至77毫米之間。

    該技術解決了AR眼鏡產品設計中的許多問題,例如機械公差,產品SKU(例如,男女的不同規格),人體工程學和用戶界面設計等。因此,采用EPE的光波導推動了AR眼鏡的發展。邁向消費級產品。但是,沒有免費的午餐。眼盒的擴展是以平均后每個點的光輸出較少為代價的。這是與常規方法相比波導具有較低光學效率的主要原因。

    幾何波導利用常規的幾何光學設計過程,仿真工具和制造過程,而不涉及任何花哨的亞波長結構。由于幾何光學結構不會對顏色造成任何偏差,因此生成的圖像可以具有很高的質量。但是,在制造過程中似乎存在挑戰。挑戰之一是透反射鏡的涂層。由于在波導內部傳播期間留下的光越來越少,因此對于每個反射鏡而言,所需的反射/透射比將有所不同,以確保在整個眼盒內輸出均勻的光。而且由于光由于LCOS的性質而被偏振,而LCOS經常被用作幾何波導系統的微型顯示器,因此每個反射鏡的表面上可以具有十層以上的薄膜涂層。

    此外,在對每個鏡子進行鍍膜處理之后,需要將它們堆疊并粘在一起,然后以精確的角度切割。膠合和切割的精度也會影響玻璃板的平行度,從而影響圖像質量。盡管每個步驟都是常規的光學制造工藝,并且可能具有很高的成品率,但是將所有繁瑣的步驟和部件組合在一起以實現合理的總成品率卻頗具挑戰性。任何處理步驟的不精確性都可能導致最終的虛擬圖像出現缺陷,例如黑線,不均勻性,重影等。此外,盡管制造進步已使微顯示關閉時鏡面陣列的可見度降至最低,但我們仍然可以在目鏡上將它們視為“條紋”,這會阻礙正常視力,并且還會影響AR眼鏡的外觀。

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